Your browser does not support JavaScript!
奈微與材料科技中心
歡迎光臨奈微與材料科技中心

Recent

數據載入中...
原子層沉積系統(ALD)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

PICOSUN R200 Advanced

二、重要規格及注意事項

(1)   Max. Size: 8” wafer (破片到8“ wafer)

(2)  目前僅提供Al2O3 layer deposition

(3)   Process : H2O process

(4)  材料限制:除Al, Ti, Cr外,不能含其他金屬。不接受高分子材料。

(5)  目前只提供代工。

三、Reference
  • Temp. (C)

    Thickness (nm)

    n (633 nm)

    Std. Dev. (%)

    300

    48.1

    1.67

    0.63

    250

    50.5

    1.67

    0.82

    150

    46.7

    1.66

    0.95

註:500 Cycles (~2.5 hr)

四、服務項目及收費標準

 

設備名稱/服務項目 清大 其他學界 業界

原子層沉積系統(ALD

委託代工

代工

1,000/

1,500/

2,000/

自行操作

暫不開放

材料

5 / cycle

10 / cycle

五、代工申請表

代工申請單下載

代工交件、取件統一窗口為106室 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心106室 林小姐

六、機台負責人
聯絡人
負責人員

黃如君 博士  

mail:jchuang@mx.nthu.edu.tw


Tel

03 - 5742489

或校內分機 42489


 

 

瀏覽數