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前三化學槽(Chemical Bench Ⅱ & Ⅲ)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

 

 

二、用途

清洗、蝕刻

三、重要規格

四吋晶圓可進,清洗破片需自備晶舟

四、注意事項:

使用化學站時需穿著防護器具,且了解使用規定及相關規範,開始使用前必須先寫紀錄本,違者重罰。 

Wafer要使用站二硫酸槽去除光阻時,需先用丙酮、DI WATER清洗過後,才能進硫酸槽清洗。

基於防範化學槽汙染及安全考量,使用下一個化學槽前,必需用DI WATER 清洗至水阻值8MΩ並且旋乾後才能進行下一個製程。

化學站三可帶酸鹼及實驗相關用具,使用完畢須自行帶走,不得置留於無塵室內,如為強揮發性之有害人體之物質請勿攜入,違者停權。

化學站三為公用區塊,為因應特殊實驗需求及公平之原則,若實驗需求有需要浸泡較長時間(人會離開),請先向中心提出申請(228研究助理辦公室),核可後會依狀況酌收費用($200/日)。

***操作前請翻閱站槽旁或網站上最新版之手冊,以免違規受罰***

 

 

五、服務項目及收費標準
設備名稱 / 服務項目 清大 其他學界 業界

工三館前三化學站(Chemical Bench II & III 

委託代工

開機費

(2小時)

1,000/

1,500/

2,000/

超過開機時間

加收費

500/

750/

1,000/

自行操作

設備

使用費

進出管理費已包含


化學站三目前暫不收費,特殊狀況者須先提出申請並視狀況酌收費用

僅提供四吋晶圓標準清洗(H2SO4及BOE之清洗)、鋁蝕刻、氧化矽蝕刻之代工(結構層不含金屬及三、五)

 

 

六、操作手冊

下載手冊                          前後棟配置圖(請自行列印)

七、代工申請表

代工申請單下載

代工交件、取件統一窗口為106室 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心106室 林小姐

八、機台即時訊息

九、負責人員
聯絡人
負責助理

張瀞文、郭文鳳 小姐  

mailchangcw@mx.nthu.edu.tw

          kuowenfeng@hotmail.com


Tel

03 - 5742291,5742292

或校內分機 42291,42292


 

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