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奈微與材料科技中心
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後三黃光室清洗槽(Wet Bench後)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

清洗站
號碼:A1226W
品保:MANDY
廠商 拓技科技股份有限公司  Tel:037-581599  Fax:037-580996

二、用途

清洗

三、重要規格

需小於6吋WAFER(包含6吋WAFER)

 
注意事項:

若實驗內容含有金屬或者丙銅(Aceton)請在站槽的左半邊操作(禁止使用右半邊)

右方為黃光製程使用

禁自行攜帶酸鹼以及實驗儀器(需使用110或220插座之儀器)(如有相關實驗需要,請至前三化學站三操作)

機台下方為中心提供化學藥品之放置區,請勿放置私人用品,如發現將以違規論

使用後之化學廢液,請放置於化學藥品回收櫃分類倒入

 

負責人員
聯絡人
負責助理

吳若穎 小姐  

mail:wury@mx.nthu.edu.tw


Tel

03 - 5742291,5742292

或校內分機 42291,42292


 

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