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奈微與材料科技中心
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EVG620奈米壓印系統(EVG620)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

億合科技/EVG620

二、用途

silicon top side alignment

三、重要規格

晶圓規格:矽晶圓1~4吋,厚度介於0.12 mm
光罩規格:五吋mask,厚度小於4 mm
對準範圍:X, Y, Z +/- 5 mmTheta +/- 3.5
對準精度:正面對準0.5μm
曝光模式:soft contact, hard contact, vacuum contact
目鏡移動範圍:Top side: X: 30-130 mm; Y: +70/-4 mm; Z: +/-5 mm

汞燈光源:350W 照度:10mw/cm2

Standard NUV for 350 – 450nm

四、注意事項:

光阻等製程耗材須自備
若須製程支援可與中心聯絡

五、服務項目及收費標準

  

設備名稱 / 服務項目 清大 其他學界 業界

EVG620奈米壓印系統 & 單面對準曝光

委託代工

開機費(2hr)

3,500/

5,000/

6,500/

超過開機時間

加收費

1,500/

2,500/

3,000/

自行操作

開機費(2hr)

1,600/

2,400/

3,200/

超過2hr

15分鐘加收

200元/刻鐘

300/刻鐘

400元/刻鐘

光阻等製程耗材須自備或洽中心助理

六、操作手冊

下載手冊

七、代工申請表

代工申請單下載

代工交件、取件統一窗口為106室 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心106室 林小姐

八、機台即時訊息

九、負責人員
聯絡人
負責助理

郭文鳳 小姐  

mail:kuowenfeng@hotmail.com


Tel

03 - 5742291,5742292

或校內分機 42291,42292


 

 

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