Your browser does not support JavaScript!
奈微與材料科技中心
歡迎光臨奈微與材料科技中心

Recent

數據載入中...
電子束微影系統(E-beam lithography system)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

ELIONIX INC. /ELS-7800

二、用途

利用電子束畫出圖形

三、重要規格

電壓:80KeV
電流: 200pA ~ 10pA
最小線寬:20nm (Positive resist, thickness < 100nm), 100nm(Positive resist, thickness = 300nm)
基板尺寸:2 inch~6inch full wafer或破片(破片需大於10mm2並且小於25mm2)

四、注意事項:

基板必須能夠導電
不得進鐵磁材料

五、服務項目及收費標準

  

設備名稱 / 服務項目

四校

其他學界

業界

電子束微影系統(E-beam lithography system

委託代工

開機費(2hr)

4,000/

6,000/

8,000/

超過開機時間

加收費

2,000/

3,000/

4,000/

自行操作

單機

會員制

  • 1年會費10萬元。
  • 每週固定時段,可使用時數4小時。

光阻與薄膜等製程耗材須自備或洽中心助理

六、操作手冊

七、代工申請表

代工申請單下載

代工交件、取件統一窗口為106室 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心106室 林小姐

八、機台即時訊息

九、負責人員
聯絡人
負責助理

黃如君 小姐  

mail:jchuang@mx.nthu.edu.tw


Tel

03 – 5742489或校內分機 42489


 

瀏覽數