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奈微與材料科技中心
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光阻去除系統(Plasma Cleaning System)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

日本SAMCO,Model PC-300

二、用途

PR etch/去除光阻

三、重要規格

Wafer size:破片、4" wafer (max 12 piece) ~ 8" wafer (max 3 piece)
Power supply:Maximum 300 W
Gas:Ar、O2
Main pump:Rotary pump

四、服務項目及收費標準

 優惠方案

一般會員(預付5萬元)可同時享有:自行操作5折 & 委託代工8折。

巨量會員(預付50萬元)可同時享有:自行操作3折 & 委託代工6.5折。

【註1】欲加入本中心最新優惠方案者,須無任何欠款。

【註2】預付款項無使用期限,惟款項用盡時,即恢復原價計費。

【註3】預付款項,專款專用;折扣不含耗材及門禁費。

【註4】超過最低使用時數後,每15分鐘計費一次。


 

設備名稱 / 服務項目

清大

其他學界

業界

光阻去除系統(Plasma Cleaning System


(Clean
製程及操作時間皆列入計費,最低使用時數1hr)

委託代工

代工費率

20元/

30元/

40元/

自行操作

操作費率

10元/

15元/

20元/


 

五、操作手冊

下載手冊

六、代工申請表

代工申請單下載

代工交件、取件統一窗口為 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心 林小姐

七、機台即時訊息

八、負責人員
聯絡人
負責助理

戴依馨 小姐  

mail:yhtai@mx.nthu.edu.tw


Tel

03 - 5742292

或校內分機 42292


 

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