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光阻去除系統(Plasma Cleaning System)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

日本SAMCO,Model PC-300

二、用途

PR etch/去除光阻

三、重要規格

Wafer size:破片、4" wafer (max 12 piece) ~ 8" wafer (max 3 piece)
Power supply:Maximum 300 W
Gas:Ar、O2
Main pump:Rotary pump

四、服務項目及收費標準

  

設備名稱 / 服務項目 清大 其他學界 業界

光阻去除系統(Plasma Cleaning System

委託代工

開機費(2hr)

2,400/

3,600/

4,800/

超過開機時間

加收費

1,200/

1,800/

2,400/

自行操作

開機費(1hr)

1,000/

1,400/

2,000/

超過1hr

15分鐘加收

250/刻鐘

350/刻鐘

500/刻鐘

 備註:本機台由日本SAMCO提供,本中心管理。

五、操作手冊

六、代工申請表

代工交件、取件統一窗口為106室 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心106室 林小姐

七、機台即時訊息

負責人員
聯絡人
負責助理

戴依馨 小姐  

mail:yhtai@mx.nthu.edu.tw


Tel

03 - 5742291,5742292

或校內分機 42291,42292


 

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