光阻去除系統（Plasma Cleaning System） - 國立清華大學奈微與材料科技中心

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光阻去除系統（Plasma Cleaning System）

儀器說明

一、廠牌與型號：

日本SAMCO，Model PC-300

二、用途

PR etch／去除光阻

三、重要規格

Wafer size：破片、4" wafer (max 12 piece) ~ 8" wafer (max 3 piece)
Power supply：Maximum 300 W
Gas：Ar、O₂
Main pump：Rotary pump

四、服務項目及收費標準

設備名稱 / 服務項目			清大	其他學界	業界
光阻去除系統（Plasma Cleaning System）	委託代工	開機費(2hr)	2,400元/次	3,600元/次	4,800元/次
	委託代工	超過開機時間加收費	1,200元/時	1,800元/時	2,400元/時
	自行操作	開機費(1hr)	1,000元/次	1,400元/次	2,000元/次
	自行操作	超過1hr 每15分鐘加收	250元/刻鐘	350元/刻鐘	500元/刻鐘

五、操作手冊

六、代工申請表

代工交件、取件統一窗口為106室林瑟蘭小姐，送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後，送件至中心106室林小姐

七、機台即時訊息

八、負責人員

聯絡人

負責助理

戴依馨小姐

Tel

03 - 5742292

或校內分機 42292

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