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快速熱退火系統
儀器說明

一、 廠牌與型號:

Premtex RTP-S61-M

二、用途 

 

載盤類型

目的

氣體

備註

A載盤(無蓋)-

無污染 Process

Oxide/nitride/silicon..etc.進行退火處理。

皆可

1.凡有機物(高分子/PR..etc.)/融點低(Sn/In..etc.)/易揮發性皆禁止。

2. B載盤屬於Dirty Process因此使用時一定要蓋上蓋,防止Chamber污染。

3. 新的B載盤為純的石墨易碎,因此使用時請小心拿取。

4. 請使用時請選擇”正確”的載盤,以免Chamber污染。

5. 原舊有A載盤已損壞,目前A載盤為新的SiC盤,由重量較重,擺放時請小心石英支架。

以上若有疑問請聯絡管理者!!!

 

B載盤(附上蓋)-

Dirty Process

對金屬/Ⅲ.Ⅴ族..etc.

進行退火處理。

禁止通O2

C載盤-6 Si wafer(自備)

Oxide/nitride/silicon..etc.進行退火處理。

皆可

  

 

三、重要規格

Wafer size:破片、4" wafer~ 6" wafer
Maximal Ramping Speed:

  • 100℃/sec for Si-wafer
  • 40℃/sec for Graphite
  • 30℃/sec for SiC

Process Temperature:200~1000℃
Maximal Process Time:

  • T<500℃:10min
  • T<800℃:5min
  • T<1000℃:3min

Process Gas:

  • N2 3SLM/ N2 30SLM
  • O2 500SCCM/ Ar 500SCCM
  • 20%H2+80%N2 500SCCM

四、服務項目及收費標準

   

設備名稱 / 服務項目 清大 其他學界 業界

快速熱退火系統(RTA

委託代工

開機費(2hr)

2,400/

3,600/

4,800/

超過開機時間

加收費

1,200/

1,800/

2,400/

自行操作

開機費(2hr)

2,000/

2,800/

4,000/

超過2hr

15分鐘加收

250/刻鐘

350/刻鐘

500/刻鐘

五、操作手冊

下載手冊

六、代工申請表

代工申請單下載

代工交件、取件統一窗口為106室 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心106室 林小姐

七、機台即時訊息

八、負責人員
聯絡人
負責助理

吳若穎 小姐  

mail:wury@mx.nthu.edu.tw


Tel

03 - 5742291,5742292

或校內分機 42291,42292


 

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