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奈微與材料科技中心
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電漿輔助化學氣相沈積系統SAMCO(PECVD System)
儀器說明

一、 廠牌與型號:

Samco/ PD10st

二、用途

沈積TEOS-Oxide ;SiO2 (SiH4 + N2O);Si3N4 (SiH4 + NH3)

三、重要規格
  • Wafer size: 4" (uniformity <5%) ~ 6" silicon wafer
  • Process pressure: 0.4~0.6 torr
  • Temperature: < 300 ℃
  • Film thickness constrain: TEOS-Oxide: < 5 μm; SiON: < 1 μm; SiO2: < 1 μm; Si3N4: < 1 μm
  • Uniformity : < 5 %
  • 破片必須大於2*2平方公分
  • 含金屬之結構不得進入( Al 除外),如造成污染須賠償清洗及相關費用
  •  如製程特殊請先向管理者申請

四、服務項目及收費標準

優惠方案

一般會員(預付5萬元)可同時享有:自行操作5折 & 委託代工8折。

巨量會員(預付50萬元)可同時享有:自行操作3折 & 委託代工6.5折。

【註1】欲加入本中心最新優惠方案者,須無任何欠款。

【註2】預付款項無使用期限,惟款項用盡時,即恢復原價計費。

【註3】預付款項,專款專用;折扣不含耗材及門禁費。

【註4】超過最低使用時數後,每15分鐘計費一次。


 

設備名稱 / 服務項目

清大

其他學界

業界

電漿輔助化學氣相沈積系統
(SAMCO PD-10ST


(Clean製程及操作時間皆列入計費,
最低使用時數2hr)

委託代工

代工費率

25元/

37元/

50元/

自行操作

操作費率

11元/

16元/

22元/

      

五、操作手冊

下載手冊

六、代工申請表

代工申請單下載

代工交件、取件統一窗口為 林瑟蘭 小姐,送代工前請先向機台負責人連繫 ( 電話或電郵 ) 確認後,送件至中心 林小姐

七、機台即時訊息

八、負責人員
聯絡人
負責助理

吳若穎 小姐  

mail:wury@mx.nthu.edu.tw


Tel

03 - 5742291

或校內分機 42291


 

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